[发明专利]电路布线的制造方法、触控面板的制造方法及带图案基材的制造方法在审
申请号: | 201880065964.0 | 申请日: | 2018-10-12 |
公开(公告)号: | CN111201488A | 公开(公告)日: | 2020-05-26 |
发明(设计)人: | 片山晃男;汉那慎一 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F1/48 | 分类号: | G03F1/48;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/20;H01L21/027;H05K3/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的一实施方式提供一种电路布线的制造方法及带图案基材的制造方法,所述电路布线的制造方法包括:将具有临时支承体及感光性树脂层的感光性转印材料以使感光性转印材料的感光性树脂层与基板接触的方式贴合于具备导电层的基板上的工序;从在贴合的工序中贴合的感光性树脂层上剥离临时支承体的工序;使光掩模与剥离临时支承体之后的感光性树脂层接触并对感光性树脂层进行图案曝光的工序;对图案曝光后的感光性树脂层进行显影而形成图案的工序;及对在感光性树脂层的未形成图案的区域中暴露的导电层进行蚀刻处理的工序,在图案曝光的工序中使用的光掩模的与感光性树脂层接触的面具有保护层,所述保护层包含在25℃、1个大气压的条件下为固体的粒子。 | ||
搜索关键词: | 电路 布线 制造 方法 面板 图案 基材 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201880065964.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备