[发明专利]用于接近法向入射MUX/DEMUX设计的方法和系统在审
申请号: | 201880066392.8 | 申请日: | 2018-10-12 |
公开(公告)号: | CN111263906A | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 汪翔;苏巴尔·萨尼;吉安洛伦佐·马西尼 | 申请(专利权)人: | 卢克斯特拉有限公司 |
主分类号: | G02B6/293 | 分类号: | G02B6/293;G02B6/12;G02B6/42;H04J14/02;H04J14/06;H04Q11/00 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 朱亦林 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 接近法向入射MUX/DEMUX设计可以包括耦合到光子管芯的光学解复用器,其中该光学解复用器包括输入光纤,位于衬底的第一表面处的薄膜过滤器,位于衬底的第一表面处的第一反射镜,以及位于衬底的第二表面处的第二反射镜。光学解复用器可以执行以下操作:接收包括多个波长光信号的输入光信号,将输入光信号从第一反射镜反射到第二反射镜,将输入光信号从第二反射镜反射到薄膜过滤器中的第一薄膜过滤器,将第一波长的光信号传送到光子管芯,而将其他波长光信号反射到第二反射镜,将其他信号反射到多个薄膜过滤器中的第二薄膜过滤器,以及将第二波长的光信号传送到光子管芯。 | ||
搜索关键词: | 用于 接近 入射 mux demux 设计 方法 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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