[发明专利]用于接近法向入射MUX/DEMUX设计的方法和系统在审

专利信息
申请号: 201880066392.8 申请日: 2018-10-12
公开(公告)号: CN111263906A 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 汪翔;苏巴尔·萨尼;吉安洛伦佐·马西尼 申请(专利权)人: 卢克斯特拉有限公司
主分类号: G02B6/293 分类号: G02B6/293;G02B6/12;G02B6/42;H04J14/02;H04J14/06;H04Q11/00
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 朱亦林
地址: 美国特*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 接近法向入射MUX/DEMUX设计可以包括耦合到光子管芯的光学解复用器,其中该光学解复用器包括输入光纤,位于衬底的第一表面处的薄膜过滤器,位于衬底的第一表面处的第一反射镜,以及位于衬底的第二表面处的第二反射镜。光学解复用器可以执行以下操作:接收包括多个波长光信号的输入光信号,将输入光信号从第一反射镜反射到第二反射镜,将输入光信号从第二反射镜反射到薄膜过滤器中的第一薄膜过滤器,将第一波长的光信号传送到光子管芯,而将其他波长光信号反射到第二反射镜,将其他信号反射到多个薄膜过滤器中的第二薄膜过滤器,以及将第二波长的光信号传送到光子管芯。
搜索关键词: 用于 接近 入射 mux demux 设计 方法 系统
【主权项】:
暂无信息
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