[发明专利]散射仪以及使用声学辐射的散射测量方法有效
申请号: | 201880067247.1 | 申请日: | 2018-10-10 |
公开(公告)号: | CN111226172B | 公开(公告)日: | 2023-07-14 |
发明(设计)人: | M·皮萨伦科;N·潘迪;A·波洛 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01N29/04;G01N29/06 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 傅远 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种声学散射仪(502)具有声学源(520),其可操作以将声学辐射(526)投影到形成在衬底(536)上的周期性结构(538)和(540)上。声学检测器(518)可操作以检测由周期性结构(538)和(540)衍射的负第一声学衍射阶(528),同时区别于镜面反射(第0阶532)。另一声学检测器(522)可操作以检测由周期性结构衍射的正第一声学衍射阶(530),同时再次区别于镜面反射(第0阶532)。声学源和声学检测器可以是压电换能器。相对于周期性结构(538)和(540)布置投影声学辐射(526)的入射角和检测器(518)和(522)的位置,使得对负第一声学衍射阶(528)和正第一声学衍射阶(530)的检测区别于第0阶镜面反射(532)。 | ||
搜索关键词: | 散射 以及 使用 声学 辐射 测量方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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