[发明专利]用于确定双轴计算机断层摄影系统的投影体积的设备和方法有效
| 申请号： | 201880069836.3 | 申请日： | 2018-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN111278361B | 公开（公告）日： | 2023-08-22 |
| 发明（设计）人： | F·S·B·范尼亚纳滕 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/02 | 分类号： | A61B6/02;A61B6/03;A61B6/06;A61B6/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘兆君 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于确定具有至少一个遮光器的双轴计算机断层摄影系统的投影体积的设备，所述设备(1)包括：接口单元(2)；投影模块(3)；以及位置确定模块(4)；其中，所述接口单元(2)被配置为接收用于示出对象(22)的计算机断层摄影图像的感兴趣体积(44)；其中，所述投影模块(3)被配置为基于探测器(16)在围绕所述对象(22)的轨迹上的不同模拟位置并且基于至少一个遮光器(15)的可变模拟位置来确定所述探测器(16)的投影体积(41、42、46)；并且其中，所述位置确定模块(4)被配置为针对所述探测器(16)的每个确定的模拟位置确定所述至少一个遮光器(15)的模拟位置，使得所述投影体积(41、42、46)对应于所述感兴趣体积(44)。本发明避免了感兴趣的对象的部分在双轴计算机断层摄影成像中无意地未被成像，同时减少到对象的在感兴趣体积(44)外面的部分的X射线吸收，并且提供在双轴轨迹采集的投影体积(41、42、46)方面改善的洞察。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 计算机 断层 摄影 系统 投影 体积 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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