[发明专利]光谱分析装置在审

专利信息
申请号: 201880072703.1 申请日: 2018-10-24
公开(公告)号: CN111542747A 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 村山广大;杉野弘幸;渡边芙美枝;伊东笃志 申请(专利权)人: 横河电机株式会社
主分类号: G01N21/552 分类号: G01N21/552;G01N21/21;G01N21/3577
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 顾红霞;龙涛峰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的在于提供一种光谱分析装置,该光谱分析装置能够更快速地进行液相的成分分析,并且该光谱分析装置更紧凑且更稳定。该光谱分析装置通过利用光照射样品而获得的反射光的反射吸收光谱来对样品进行成分分析,其中,光谱分析装置设置有:光源,其发射用于照射样品的光;棱镜,其被粘附到样品并且全反射从光源发射的光;偏振光分离元件,其将由棱镜全反射的光分离为彼此正交的第一偏振光分量和第二偏振光分量;波长色散元件,其对由偏振光分离元件分离的第一偏振光分量和第二偏振光分量的对应的波长分量进行色散;图像拍摄元件,其拍摄由波长色散元件色散的第一偏振光分量和第二偏振光分量的对应的图像;以及处理单元,其通过使用从图像拍摄元件输出的成像信号获得每个波长下的吸光度来对样品进行成分分析。
搜索关键词: 光谱分析 装置
【主权项】:
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