[发明专利]钌化合物、薄膜形成用原料以及薄膜的制造方法在审
| 申请号： | 201880072963.9 | 申请日： | 2018-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN111344294A | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 吉野智晴;远津正挥;冈田奈奈;畑濑雅子 | 申请（专利权）人： | 株式会社ADEKA |
| 主分类号： | C07F15/00 | 分类号： | C07F15/00;C23C16/18;H01L21/28;H01L21/285 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明的目的在于提供一种蒸气压高、熔点比以往已知的化合物低的钌化合物、含有该化合物的薄膜形成用原料以及使用该原料形成含有钌的薄膜的薄膜的制造方法。为了实现上述目的，提供一种下述通式所示的钌化合物、含有该钌化合物的薄膜形成用原料以及使用了该薄膜形成用原料的薄膜的制造方法。(式中，R |
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| 搜索关键词： | 化合物 薄膜 形成 原料 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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