[发明专利]具有周边第一级阵列和第二级阵列的低温泵有效
| 申请号： | 201880074344.3 | 申请日： | 2018-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN111344524B | 公开（公告）日： | 2022-04-19 |
| 发明（设计）人： | A.J.巴特利特;G.M.萨雷克;P.K.马奥尼 | 申请（专利权）人： | 爱德华兹真空泵有限责任公司 |
| 主分类号： | F25B9/10 | 分类号： | F25B9/10;F04B37/02;F04B37/08;F25D19/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张小文;刘茜 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在低温泵中，具有吸附剂并由制冷机第二级冷却的主要低温抽吸阵列沿着辐射屏蔽件侧部延伸。该阵列被沿着主要低温抽吸阵列延伸的冷凝低温抽吸阵列屏蔽。主要低温抽吸阵列可以是在向内面向的表面上具有吸附剂的圆筒，并且冷凝低温抽吸阵列可包括具有面向正面开口的表面的挡板阵列。辐射屏蔽件基座处的凸起表面（诸如，锥形表面）将从正面开口接收的分子朝向主要低温抽吸阵列重新引导。制冷机指形冷冻器可以相对于辐射屏蔽件相切地延伸，或者连接到辐射屏蔽的基座。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 周边 一级 阵列 第二级 低温泵 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于爱德华兹真空泵有限责任公司，未经爱德华兹真空泵有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880074344.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：配管部件及流体输送装置
- 下一篇：用于以微波处理产品的装置
