[发明专利]剥离剂溶液和使用剥离剂溶液的方法有效
| 申请号： | 201880074368.9 | 申请日： | 2018-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN111356759B | 公开（公告）日： | 2022-12-20 |
| 发明（设计）人： | 葛智逵;李翊嘉;刘文达;郭致贤 | 申请（专利权）人： | 弗萨姆材料美国有限责任公司 |
| 主分类号： | C11D11/00 | 分类号： | C11D11/00;C11D3/43;C11D3/30;C11D3/00;C11D1/12;C11D1/66;C11D1/38;C11D1/88 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吴亦华;徐志明 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了可以替代蚀刻抗蚀剂灰化过程的剥离溶液。所述剥离溶液可用于以良好的光致抗蚀剂去除效率和低氧化硅蚀刻速率和低金属蚀刻速率在用于半导体集成电路的半导体器件上制造电路和/或形成电极和/或封装/凸块应用。类似地提供了它们的使用方法。优选的剥离剂含有极性非质子溶剂、水、羟胺、腐蚀抑制剂、季铵氢氧化物和任选的表面活性剂。进一步提供了根据这些方法制备的集成电路器件和电子互连结构。 | ||
| 搜索关键词： | 剥离 溶液 使用 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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