[发明专利]黑色低反射膜及积层体的制造方法有效
申请号: | 201880079014.3 | 申请日: | 2018-12-06 |
公开(公告)号: | CN111448483B | 公开(公告)日: | 2022-07-26 |
发明(设计)人: | 田中直宏 | 申请(专利权)人: | 东洋油墨SC控股株式会社;东洋色材株式会社 |
主分类号: | G02B1/111 | 分类号: | G02B1/111;B05D5/06;G02B5/00;G02B5/20 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种正反射及散射反射的任一者均小而低反射性优异、表面具有充分的平滑感且黑度高的黑色低反射膜。本发明的黑色低反射膜以50:50~100:0的体积比率包含空隙率为50%以上的多孔质黑色颜料与粘合剂成分,表面的粗糙度参数Rt、Ra中,Rt为0.15μm~5μm、Ra为0.01μm~0.5μm,L*值为20以下,在400nm~700nm中,正反射率的最大值为0.8%以下、散射反射率的最大值为2%以下、光透过率的最大值为5%以下。 | ||
搜索关键词: | 黑色 反射 积层体 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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