[发明专利]碳化硅半导体装置以及电力变换装置有效

专利信息
申请号: 201880079668.6 申请日: 2018-12-18
公开(公告)号: CN111480239B 公开(公告)日: 2023-09-15
发明(设计)人: 日野史郎;永久雄一;贞松康史;八田英之;川原洸太朗 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06;H01L29/12;H01L29/872
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 肖靖
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在内置有肖特基二极管的SiC-MOSFET中,有时形成于终端部的第2阱区域进行双极型通电而耐压下降。在本发明中,在内置有肖特基二极管的SiC-MOSFET中,使形成于终端部的第2阱区域与源极电极非欧姆连接,在形成于隔着栅极绝缘膜而与栅极电极对置的区域的第2阱区域的表层部形成杂质浓度比第2阱区域低的电场缓和层。
搜索关键词: 碳化硅 半导体 装置 以及 电力 变换
【主权项】:
暂无信息
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