[发明专利]等离子体产生装置有效
| 申请号： | 201880081297.5 | 申请日： | 2018-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN111492720B | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | 豊田浩孝;铃木阳香 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人东海国立大学机构 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;C23C16/511;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王萍;侯艳超 |
| 地址： | 日本爱知*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本技术提供了一种等离子体产生装置(100)，该等离子体产生装置使缝(111)产生较强的电场。波导(110)具有面对波导(110)的内部的第一导体表面(S1)、面对波导(110)的内部的第二导体表面(S2)以及从第一导体表面(S1)穿透至波导(110)的外部的缝(111)。第一导体表面(S1)和第二导体表面(S2)电连接在一起并且相对布置。在垂直于z方向的截面中第一导体表面(S1)沿y方向的第一长度(L1)小于在垂直于z方向的截面中第二导体表面(S2)沿y方向的第二长度(L2)。第一长度(L1)包括在垂直于z方向的截面中缝(111)沿y方向的长度。第二长度(L2)小于沿x方向第一导体表面(S1)与第二导体表面(S2)之间的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 产生 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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