[发明专利]主衍射光栅的制造装置及制造方法有效
| 申请号： | 201880082154.6 | 申请日： | 2018-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN111512191B | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 大上裕纪 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 薛恒;王琳 |
| 地址： | 日本京都府京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种主衍射光栅的制造装置及制造方法，所述主衍射光栅的制造装置包括光源部与反射构件(11)。光源部朝主基板(101)的基板表面照射光，由此形成第一干涉条纹。反射构件(11)使反射由主基板(101)的基板表面反射的来自光源部的光，而再次朝基板表面侧引导，由此形成第二干涉条纹。在主基板(101)的基板表面形成基于第一干涉条纹及第二干涉条纹的抗蚀剂图案。 | ||
| 搜索关键词： | 衍射 光栅 制造 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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