[发明专利]用于生成光场模拟的方法和介质、投影系统及其控制器有效
| 申请号： | 201880082541.X | 申请日： | 2018-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN111492652B | 公开（公告）日： | 2022-05-24 |
| 发明（设计）人： | T·戴维斯;M·J·理查兹;B·利佩伊;J·P·佩蒂耶拉;C·J·奥利克;P·F·范凯塞尔 | 申请（专利权）人： | 杜比实验室特许公司 |
| 主分类号： | H04N9/31 | 分类号： | H04N9/31;G02B26/06 |
| 代理公司： | 北京市汉坤律师事务所 11602 | 代理人： | 魏小薇;吴丽丽 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 双调制投影系统(100)包括光源(102)、相位调制器(104)、幅度调制器(106)和具有时间光场模拟能力(114)的控制器(110)。相位调制器(104)在空间上对来自光源(102)的光场进行调制，以在幅度调制器(106)上生成中间图像。幅度调制器(106)在空间上对中间图像进行调制，以形成最终图像。控制器(110)对相位调制器(104)在相位调制器帧之间的转换期间的相位状态进行建模，并且生成中间图像在转换期间的光场模拟。控制器(110)利用光场模拟以比相位调制器(104)能够切换的速率更快的速率生成幅度驱动值集并将幅度驱动值集提供给幅度调制器(106)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生成 模拟 方法 介质 投影 系统 及其 控制器 | ||
【主权项】：
暂无信息
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