[发明专利]片熔接体的制造装置、片熔接体的制造方法有效
申请号: | 201880082895.4 | 申请日: | 2018-12-14 |
公开(公告)号: | CN111491782B | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 熊谷惠介;千叶祥悟;飞田隆广 | 申请(专利权)人: | 花王株式会社 |
主分类号: | B29C65/16 | 分类号: | B29C65/16;B23K26/16 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;梁霄颖 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供熔断片层叠体(10),制造具有封合缘部的片熔接体的装置(20),其包括:第1支承部件(21)和第2支承部件(26),其分别具有激光通过部;激光照射部(35),其配置于上述两个支承部件中的一个部件侧;和反射部件(50),其配置于上述两个支承部件中的另一个部件侧。激光照射部(35)使激光(30)通过一个支承部件侧的激光通过部(27)对夹持于两支承部件之间的片层叠体(10)照射。熔断了片层叠体(10)的激光(30)通过另一个支承部件侧的激光通过部(261)到达反射部件(50)而被反射。 | ||
搜索关键词: | 熔接 制造 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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