[发明专利]光学元件、微透镜阵列、及光学元件的制作方法在审
| 申请号： | 201880083287.5 | 申请日： | 2018-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN111512209A | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 山田泰美;平井利博 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社;国立大学法人信州大学 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00;G02B3/00;G02B3/14;G02B5/02;G02B26/08;G03B15/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种藉由简单的结构即可对光学特性进行调整的光学元件及其制作方法。本发明的光学元件(10)具有第1电极层(12)、第2电极层(13)、及在所述第1电极层(12)和所述第2电极层(13)之间所配置的高分子材料层(11)。在电压的施加下，所述高分子材料层(11)发生变形，从而在所述光学元件(10)的表面上形成光散射体(15)。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 透镜 阵列 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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