[发明专利]用于改变光分布的光学装置有效
| 申请号： | 201880085112.8 | 申请日： | 2018-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN111566407B | 公开（公告）日： | 2023-02-17 |
| 发明（设计）人： | 阿西·西瓦蒂 | 申请（专利权）人： | 莱迪尔公司 |
| 主分类号： | F21V5/04 | 分类号： | F21V5/04;F21V5/08;F21V7/00;G02B19/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 李兰;孙志湧 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提出了一种用于改变光源(202)的光分布图案的光学装置(201)。光源将第一光束辐射到第一几何四分空间，并且将第二光束辐射到第二几何四分空间，其中第一和第二四分空间由相互垂直的几何平面定义，其中一个几何平面构成第一几何四分空间和第二几何四分空间之间的边界。该光学装置包括：透镜部(207)，用于改变第一光束的光分布图案；和两个反射器表面(208、211)，用于将第二光束从第二几何四分空间反射到第一几何四分空间。两个反射器表面在垂直于第一和第二几何四分空间之间的边界的方向(x)上连续，并且使得光学装置可以比仅使用一个反射器表面的情况低。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 改变 分布 光学 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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