[发明专利]投射光刻系统的光瞳分面反射镜、照明光学单元及光学系统在审
| 申请号： | 201880085830.5 | 申请日： | 2018-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN111936933A | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | M.德冈瑟 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/08;G02B5/09 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及投射光刻系统的光学系统，掩模母版上的投射光学系统的照明辐射的角度空间在第一方向上是照明光学单元的照明辐射的角度空间的两倍。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 光刻 系统 光瞳分面 反射 照明 光学 单元 光学系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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