[发明专利]单次射击X射线相衬和暗场成像在审
| 申请号： | 201880086668.9 | 申请日： | 2018-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN111615360A | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | A·亚罗申科;T·克勒 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;G01N23/041 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘兆君 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于X射线探测器设备(XD)的部件(XS)，包括被网格化在多个不同区域(Rj)中的层(SL)，所述区域具有处于相应的相位的相应的周期性结构，其中，两个相邻区域具有处于不同相位的周期性结构。 | ||
| 搜索关键词： | 射击 射线 暗场 成像 | ||
【主权项】：
暂无信息
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