[发明专利]用于确定图案化过程参数的方法和设备在审
| 申请号： | 201880087554.6 | 申请日： | 2018-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN111630455A | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | A·齐亚托马斯;P·C·赫因恩;E·G·麦克纳马拉;T·希尤维斯;M·I·迪拉法伦特瓦伦丁;M·H·赛尔卓迪;A·J·登鲍埃夫;王淑锦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种方法，所述方法包括：获得由来自衬底的多个结构中的每个结构重新引导的辐射的所检测的表示，所述衬底上另外具有器件图案，其中每个结构具有相应结构的与所述相应结构的相应名义实体配置相比有意不同的实体配置，其中每个结构在所述相应名义实体配置的情况下具有几何对称性，其中所述结构的有意不同的实体配置造成不对称光学特性分布，并且其中图案化过程参数测量所述实体配置的改变；和基于所检测的表示且基于有意不同的实体配置来确定值，以设置、监控或校正用于确定所述图案化过程参数的测量选配方案。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 图案 过程 参数 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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