[发明专利]用于可见光和紫外光检测的半导体光学传感器及其对应的制造过程在审

专利信息
申请号: 201880088528.5 申请日: 2018-12-12
公开(公告)号: CN111712921A 公开(公告)日: 2020-09-25
发明(设计)人: 安德烈亚·德尔蒙特 申请(专利权)人: 拉芳德利责任有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 潘军
地址: 意大利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 半导体光学传感器(1)设置有:衬底(2),集成有多个光电检测器有源区域(4);以及CMOS层堆叠(6),布置在衬底(2)上并且包括多个介电(6a)层和导电(6b)层。UV转换区域(10)布置在多个第一光电检测器有源区域(4)上方,以将UV光辐射转换为朝向第一光电检测器有源区域(4)的可见光辐射,使得第一光电检测器有源区域(4)被设计为检测UV光辐射。特别地,在光学传感器(1)的光电检测单元(16)的阵列(15)中,第一光电检测器有源区域(4)与被设计为检测可见光辐射的多个第二光电检测器有源区域(4)交替,从而限定以相同空间分辨率对UV光辐射和可见光辐射两者敏感的单个图像检测区域(15’)。
搜索关键词: 用于 可见 光和 紫外光 检测 半导体 光学 传感器 及其 对应 制造 过程
【主权项】:
暂无信息
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