[发明专利]碳化硅半导体装置有效
申请号: | 201880089106.X | 申请日: | 2018-02-19 |
公开(公告)号: | CN111699558B | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 富永贵亮;福井裕 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/12 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 李今子 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 漂移层(10)以及源极区域(8)具有第1导电类型。基极区域(7)具有第2导电类型。第1沟槽(12)贯通源极区域(8)以及基极区域(7)。栅极电极(1)隔着栅极绝缘膜(2)设置于第1沟槽(12)内。第1缓和区域(3)配置于第1沟槽(12)的下方,具有第2导电类型。源极焊盘电极(4)与第1缓和区域(3)电连接。栅极焊盘电极(14)配置于非元件区域(RN)。杂质区域(108)配置于非元件区域(RN),设置于漂移层(10)上,具有第1导电类型。第2沟槽(112)贯通杂质区域(108)。第2缓和区域(103)配置于第2沟槽(112)的下方,具有第2导电类型。 | ||
搜索关键词: | 碳化硅 半导体 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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