[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置在审
| 申请号： | 201880091083.6 | 申请日： | 2018-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN112020775A | 公开（公告）日： | 2020-12-01 |
| 发明（设计）人： | 高伟程;蔡武卫 | 申请（专利权）人： | 深圳市柔宇科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L27/32;H01L21/336 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518172 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：基底、有源层、绝缘层及保护层，所述有源层、绝缘层以及保护层均设置在所述基底的一侧，所述保护层覆盖所述有源层的至少部分表面，使所述保护层所覆盖的有源层的至少部分表面与所述绝缘层相间隔。本发明还提供一种阵列基板的制备方法和显示装置，本发明提供的阵列基板能够保护有源层不被绝缘层或者外界的水气、氢氧元素的影响，提高阵列基板的电学稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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