[发明专利]真空处理设备以及用于处理基板的方法在审
| 申请号： | 201880091795.8 | 申请日： | 2018-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN111902563A | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 马库斯·哈尼卡;约瑟夫·C·奥尔森;彼得·F·库伦齐;任东吉;马库斯·本德 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/50;H01L21/677;H01L21/67;B65G49/06;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 描述一种用于处理基板的真空处理设备。所述真空处理设备包括真空腔室；与真空腔室相邻的并操作性地与真空腔室耦接的至少两个处理站，当基板在不同处理站进行处理时，基板的表面具有不同的定向，并且至少一个处理站包括具有纵向轴的线性源以用于处理基板；以及基板支撑件。所述基板支撑件包含用于固持基板的支撑主体；以及致动器，被配置为使支撑主体从非垂直位置围绕处理站前方的轴而移动至非水平位置。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 设备 以及 用于 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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