[发明专利]发光增强系统在审
| 申请号： | 201880091989.8 | 申请日： | 2018-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN111919098A | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | S·巴塞洛;A·罗卡斯;R·N·森古普塔 | 申请（专利权）人： | 惠普发展公司;有限责任合伙企业 |
| 主分类号： | G01J3/44 | 分类号： | G01J3/44;B82Y15/00 |
| 代理公司： | 北京市汉坤律师事务所 11602 | 代理人： | 初媛媛;吴丽丽 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 发光增强系统可以包括：发光增强传感器，其具有基底和一组纳米指件，所述一组纳米指件具有多个单独纳米指件，这些单独纳米指件可以是柔性的并且包括附接到基底的支撑端、相对于基底远侧定位的远侧前端、以及位于支撑端和远侧前端之间的中间部分。可以将导电连续的金属或金属合金的涂层施加到基底以及远侧前端。中间部分可以没有涂层或者在中间部分处的涂层是导电不连续的。可以存在液体喷射器并且该液体喷射器可以包括喷射喷嘴以喷射体积为2pL至10μL的液滴。所述一组纳米指件和喷射喷嘴可以是能够相对于彼此定位的以使液滴沉积在所述一组纳米指件上。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 增强 系统 | ||
【主权项】：
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