[发明专利]在真空系统中处理掩模的方法、和真空系统有效
| 申请号： | 201880093518.0 | 申请日： | 2018-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN112204164B | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧;斯蒂芬·班格特;栗田真一;于尔根·亨里奇;安德里亚斯·索尔 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/56;H01L21/677 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述一种在真空系统中处理掩模的方法。所述方法包括(a)在真空系统中沿着传送路径以非水平定向(V)传送运载第一掩模(11)的掩模载体(10)；(b)将运载第一掩模(11)的掩模载体(10)的定向从非水平定向(V)改变为基本上水平的定向(H)；和(c)从在真空系统中以基本上水平定向(H)布置的掩模载体(10)卸载第一掩模(11)。根据另外的方面，描述一种真空系统，包括掩模处理模块，所述掩模处理模块用于处理掩模。(图1C)。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 系统 处理 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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