[发明专利]缺陷检测方法以及装置有效
| 申请号： | 201880093664.3 | 申请日： | 2018-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN112154320B | 公开（公告）日： | 2023-10-20 |
| 发明（设计）人： | 畠堀贵秀;田窪健二 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47;G01B11/30;G01N21/88;G01N29/24 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 缺陷检测装置(10)具备：激光光源(11)，其向被检查物体(S)的表面的测定区域(R)照射激光；激光光源控制部(15)，其控制激光光源，使得以比被检查物体(S)上产生的振动的周期长的时间连续地或准连续地输出激光；干涉仪(散斑剪切干涉仪(14))，其生成所述激光在测定区域反射出的反射激光与从激光光源(11)射出的参照激光发生干涉所得到的干涉光；检测器(成像传感器(145))，其检测所述干涉光的在测定区域(R)的各点的强度；移相器(143)，其使反射激光和参照激光中的任意激光的相位偏移；累计强度参数决定部(16)，其通过移相器(143)使所述相位偏移为不同的三个以上的相位，在所述三个以上的相位下分别求出在比所述振动的周期长的累计时间内对所述各点的强度进行累计所得到的累计强度；干涉度分布生成部(17)，其基于针对所述各点在所述三个以上的相位下分别求出的所述累计强度来求出干涉度的分布；以及缺陷检测部(18)，其基于所述测定区域(R)内的所述干涉度的分布，来检测测定区域(R)中的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 检测 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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