[发明专利]电子束装置在审
| 申请号： | 201880094321.9 | 申请日： | 2018-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN112236837A | 公开（公告）日： | 2021-01-15 |
| 发明（设计）人： | 山泽雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | H01J37/153 | 分类号： | H01J37/153;H01J37/141;H01J37/147 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 曾贤伟;范胜杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在进行使入射到试样上的预定的入射位置的电子束的入射角发生变化的角度扫描的电子束装置中，将校正线圈(3)设置于物镜(6)的轭(磁路)(61)的间隙部的情况下，即使偏转频率较高，也能够追随偏转信号来校正球面像差。因此，控制电子光学系统的主控制部(16)在校正线圈的控制中设定针对扫描线圈的控制的预定的相位变化量(a，b)，预定的相位变化量(a，b)根据扫描速度不同的多个扫描模式而不同。 | ||
| 搜索关键词： | 电子束 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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