[发明专利]阵列基板及其制造方法及显示装置在审

专利信息
申请号: 201880095907.7 申请日: 2018-12-25
公开(公告)号: CN112640106A 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 高伟程;蔡武卫 申请(专利权)人: 深圳市柔宇科技股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518172 广东省深圳市龙岗区*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种阵列基板及其制造方法及显示装置,其中阵列基板的制造方法包括:在基底(2)上形成第一有源层(18);在所述第一有源层(18)上形成栅绝缘层(6);在所述栅绝缘层(6)上同时形成第一栅电极(16)和第二栅电极(28);在所述第一栅电极(16)和所述第二栅电极(28)上同时形成所述层间绝缘层(5);在所述层间绝缘层(5)上形成第二有源层(26),通过利用同一种制备工艺,不同的材料制备而成所述第一有源层(18)和所述第二有源层(26),进而在一种阵列基板上得到具有不同器件特性的薄膜晶体管器件,提高了生产效率,同时利于布局空间的使用。
搜索关键词: 阵列 及其 制造 方法 显示装置
【主权项】:
暂无信息
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