[发明专利]减少装置覆盖误差

摘要

本发明提供过程控制方法、计量目标及生产系统以减少或消除过程覆盖误差。计量目标具有一(多)对具有不同分段的周期结构，例如，在所述对的一个周期结构中无分段，而在所述对的另一周期结构中具有类似装置的分段。过程控制方法直接在先前层处的所述周期结构的生产之后及在当前层处的所述周期结构的生产之前从所述先前层处的所述周期结构导出计量测量，并使用所述导出的测量来调整作为所述当前层的生产的一部分的光刻阶段。生产系统将光刻工具及计量工具集成到生产反馈回路中，所述生产反馈回路实现了逐层过程调整。