[发明专利]使用二衍射级成像的离轴照明覆盖测量在审
| 申请号： | 201880096229.6 | 申请日： | 2018-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112567296A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | Y·沙立波;Y·帕斯卡维尔;V·莱温斯基;A·玛纳森;S·埃桑巴赫;G·拉雷多;A·希尔德斯海姆 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B7/38;G01N21/47;G01N21/952 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供增强测量的准确度且能够简化测量过程及改进计量目标与半导体装置之间的对应性的计量方法及工具。方法包含：以利特罗(Littrow)配置照明目标以产生包含‑1衍射级及0衍射级的第一测量信号及包含+1衍射级及0衍射级的第二测量信号，其中所述第一测量信号的所述‑1衍射级及所述第二测量信号的所述+1衍射级与所述照明的方向成180°衍射；执行所述第一测量信号的第一测量及所述第二测量信号的第二测量；及从所述第一测量及所述第二测量导出(若干)计量度量。任选地，反射0衍射级可经分裂以产生与所述‑1及+1衍射级相互作用的分量。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 衍射 成像 照明 覆盖 测量 | ||
【主权项】：
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