[发明专利]用于在基板上进行关键尺寸测量的方法、及用于检测及切割基板上的电子装置的设备在审
申请号: | 201880099695.X | 申请日: | 2018-11-22 |
公开(公告)号: | CN113169084A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 伯纳德·G·穆勒 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G03F7/00;G01N21/95;H01L21/67;H01J37/30 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 描述了一种用于在基板上进行关键尺寸测量的方法及设备。所述方法包括在基板的主表面在X‑Y平面上的情况下支撑所述基板;利用聚焦离子束柱切割出缺口,所述聚焦离子束柱相对于所述基板的主表面的平面成第一角度;利用第一成像带电粒子束显微镜测量相邻于所述缺口的一或多个结构的第一尺寸和第二尺寸的至少一者,所述第一成像带电粒子束显微镜具有光轴,所述光轴相对于基板的主表面的平面成第二角度,所述第二角度不同于第一角度,所述第一尺寸和所述第二尺寸在X‑Y平面上,且被按比例测量;及利用具有所述光轴的所述第一成像带电粒子束显微镜,在相对于X‑Y平面成角度的方向上,按比例测量所述一或多个结构的第三尺寸。 | ||
搜索关键词: | 用于 基板上 进行 关键 尺寸 测量 方法 检测 切割 电子 装置 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造