[发明专利]用于探测受过程影响或在该过程期间形成的目标物体的传感器设备有效
| 申请号： | 201880100721.6 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN113424233B | 公开（公告）日： | 2023-07-28 |
| 发明（设计）人： | J·奥特纳德;D·沃尔夫;K·鲁茨;C·布洛姆克;M·伯格;P·斯图尔;G·赫特;S·金茨勒 | 申请（专利权）人： | 西克股份公司;通快机床股份两合公司 |
| 主分类号： | G07C3/14 | 分类号： | G07C3/14 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 杨婧妍;司昆明 |
| 地址： | 德国瓦尔德基*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于探测受过程影响或在该过程中形成的目标物体的传感器设备包括传感器单元和评估装置。传感器单元被构造成探测在传感器单元的探测区域中的目标物体并且生成能够受目标物体影响的传感器信号。评估装置被构造成将传感器信号处理为第一输入变量并且根据传感器信号生成输出信号，该输出信号指示对目标物体的探测。评估装置进一步被构造成将作用在目标物体上的过程的过程参数和/或表征目标物体并受过程影响的目标物体参数处理作为相应的另外输入变量，并且根据过程参数和/或目标物体参数生成输出信号。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 探测 受过 影响 过程 期间 形成 目标 物体 传感器 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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