[发明专利]样品中心的检测装置及检测方法在审

专利信息
申请号: 201910000509.9 申请日: 2019-01-02
公开(公告)号: CN109631758A 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 郑金轮;白震;王正伟;魏劲松 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 样品中心的检测装置及检测方法,包括检测光路的构建,自动检测,电机运动控制算法的实现。通过改变显微物镜、柱面镜、光电探测器之间的距离,来改变末端光强信号分布随前端物镜和样品间距变化的灵敏度。当显微物镜出射光斑脱离样品表面时,反射到探测器上的光斑形状发生显著变化,形成的离焦误差信号发生变化,确定样品的边沿位置,再通过控制电机的运动找到多个不同的样品边沿位置,最后将多个边沿位置的坐标用代数法联立方程组求解,从而得到样品几何中心的位置。在集成电路掩膜版的制造中,掩膜版本身的形状固定,通过该方法的定位功能可以在激光光刻过程中帮助系统精确锁定待刻写区域,增大刻写区域面积,提高刻写率,具有很高的应用价值。
搜索关键词: 刻写 边沿位置 检测装置 显微物镜 样品中心 掩膜版 电机运动控制算法 光电探测器 联立方程组 光斑 帮助系统 定位功能 光斑形状 光强信号 几何中心 间距变化 控制电机 误差信号 显著变化 形状固定 样品表面 自动检测 代数法 激光光 检测光 灵敏度 柱面镜 检测 求解 探测器 出射 构建 离焦 物镜 反射 集成电路 锁定 脱离 制造 应用
【主权项】:
1.样品中心的检测装置,其特征在于,包括激光器(1)、扩束准直器(2)、1/2波片(3)、偏振分光棱镜(4)、1/4波片(5)、调焦装置(6)、显微物镜(7)、供待测样品(8)放置的二维电机位移平台(9)、柱面镜CLx(10)、柱面镜CLy(11)、四象限探测器(12)、电机控制器(13)、通用计算机(14)和控制器(15);所述激光器(1)发出的光经过所述扩束准直器(2)调整后变为近似平行光,该近似平行光依次经过所述1/2波片(3)和偏振分光棱镜(4)后被该偏振分光棱镜(4)分束为第一透射光和第一反射光,其中第一透射光通过1/4波片(5)入射到显微物镜(7),利用调焦装置(6)将光束聚焦到待测样品(8)上,经该待测样品(8)反射的反射光,沿原入射光路返回依次经显微物镜(7)和1/4波片(5)至偏振分光棱镜(4),该偏振分光棱镜(4)将其分束为第二反射光和第二透射光,其中第二反射光依次经过柱面镜CLx(10)和柱面镜CLy(11)汇聚到四象限探测器(12)上,该四象限探测器(12)的输出端与所述控制器(15)的输入端相连,且该控制器(15)与所述计算机(14)进行通讯;所述电机控制器(13)的输出端与所述二维电机位移平台(9)的输入端相连,且该电机控制器(13)与所述计算机(14)进行通讯。
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