[发明专利]薄膜制备装置、方法及系统有效
| 申请号： | 201910001693.9 | 申请日： | 2019-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN109609922B | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 唐浩;周全国;程久阳;兰荣华;周丽佳;王志东;鲁彦成 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/30;C23C14/34;C23C14/22 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 杨广宇 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种薄膜制备装置、方法及系统，属于薄膜制备领域。该装置包括：设置在镀膜腔室内的传递机构和至少两个膜层沉积机构，该传递机构包括至少两个传递件；每相邻两个膜层沉积机构之间设置有至少一个传递件，该至少一个传递件用于在相邻两个膜层沉积机构之间传输薄膜基带；该每个膜层沉积机构用于在薄膜基带上沉积一层膜层，且各个膜层沉积机构所沉积的膜层不同。本发明提供的薄膜制备装置可以通过镀膜腔室内的至少两个膜层沉积机构制备功能性薄膜，提高了功能性薄膜的制备效率，降低了制备成本。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 制备 装置 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜制备装置，其特征在于，所述装置包括：设置在镀膜腔室内的传递机构和至少两个膜层沉积机构；所述传递机构包括至少两个传递件；每相邻两个所述膜层沉积机构之间设置有至少一个传递件，所述至少一个传递件用于在相邻两个所述膜层沉积机构之间传输薄膜基带；每个所述膜层沉积机构用于在所述薄膜基带上沉积一层膜层，且各个所述膜层沉积机构所沉积的膜层不同。
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