[发明专利]一种基于V形光学天线超构表面的解复用器件及其工作方法有效
申请号: | 201910001990.3 | 申请日: | 2019-01-02 |
公开(公告)号: | CN109597160B | 公开(公告)日: | 2021-04-27 |
发明(设计)人: | 李炎;刘亚楠;李康 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | G02B6/12 | 分类号: | G02B6/12;G02B1/00 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 许德山 |
地址: | 250199 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于V形光学天线超构表面的解复用器件及其工作方法,包括基底及设置在基底上的周期性排列的若干个V形天线单元组,若干个V形天线单元组沿X轴依次排列,沿Y轴平行排列,每个V形天线单元组包括6个V形天线,相邻V形天线之间的相位差为π/3,实现0到2π的相位覆盖。本发明解复用器件可以实现针对特定波段多波长光的不同角度偏折。基于广义斯涅尔定律,在1450nm‑1650nm的工作波段中,通过对V形天线的臂长和夹角的调制,在界面处引入相位突变梯度,实现异常折射。通过入射光与界面处的微纳天线阵列相互作用,可以实现0‑2π范围内的线性极化转换透射相移的灵活调制,以及对不同波长光不同角度的色散。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 光学 天线 表面 解复用 器件 及其 工作 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于V形光学天线超构表面的解复用器件,其特征在于,包括基底及设置在所述基底上的周期性排列的若干个V形天线单元组,若干个V形天线单元组沿X轴依次排列,沿Y轴平行排列,每个V形天线单元组包括6个V形天线,相邻V形天线之间的相位差为π/3,实现0到2π的相位覆盖。
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