[发明专利]薄膜沉积设备及薄膜沉积设备的控制方法有效
| 申请号： | 201910011755.4 | 申请日： | 2019-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN111411342B | 公开（公告）日： | 2023-02-17 |
| 发明（设计）人： | 刘洋;任兴润;何丹丹;王婷 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/06;C23C14/14 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁礼君;阚梓瑄 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本公开提供一种薄膜沉积设备及薄膜沉积设备的控制方法，涉及半导体技术领域。所述薄膜沉积设备包括控制机台及正对设置的衬底承载装置和靶材承载装置，所述控制方法包括根据靶材消耗值与补偿参数的对应关系确定所述补偿参数；在薄膜沉积过程中，所述控制机台根据所述补偿参数对所述控制机台的预设工作参数进行实时补偿，以得到目标工作参数；所述预设工作参数至少包括靶材功率、靶材电压、靶材沉积时间以及所述衬底承载装置和所述靶材承载装置间距中至少一个。本公开的薄膜沉积设备及薄膜沉积设备的控制方法可在预设时间内保证薄膜的厚度，提高产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 设备 控制 方法 | ||
【主权项】：
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