[发明专利]一种荧光分子断层成像可行域优化方法有效
| 申请号： | 201910014241.4 | 申请日： | 2019-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN109820479B | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 宋小磊;焦璞;易黄建;梁嘉翔;赵凤军;曹欣;贺小伟;侯榆青 | 申请（专利权）人： | 西北大学 |
| 主分类号： | A61B5/00 | 分类号： | A61B5/00 |
| 代理公司： | 西安长和专利代理有限公司 61227 | 代理人： | 黄伟洪 |
| 地址： | 710127 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明属于光学分子成像技术领域，公开了一种荧光分子断层成像可行域优化方法；使用有限元计算软件对仿体进行四面体网格划分，建立表面测量值与内部荧光目标分布的线性关系；利用不完全变量截断共轭梯度法、共轭梯度最小二乘法求解系统方程，得到两组重建结果；根据三支决策理论划分出两组重建结果的正域，合并构成目标可行区，作为下一级重建的区域；再次使用不完全变量截断共轭梯度法、共轭梯度最小二乘法进行重建，得到改进后的最终结果。本发明采用两种不同的重建算法进行重建；提取出两组结果中的正域；在此区域内完成最终重建。本发明能够获取到准确的目标范围区域，有效缓解了问题的病态性，上述两种重建方法的图像质量均得到明显提升。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 荧光 分子 断层 成像 可行 优化 方法 | ||
【主权项】：
1.一种荧光分子断层成像可行域优化方法，其特征在于，所述荧光分子断层成像可行域优化方法包括：第一步，使用有限元计算软件对仿体进行四面体网格划分，建立表面测量值与内部荧光目标分布的线性关系；第二步，利用不完全变量截断共轭梯度法、共轭梯度最小二乘法求解系统方程，得到两组重建结果；第三步，根据三支决策理论划分出两组重建结果的正域，合并构成目标可行区，作为下一级重建的区域；第四步，再次使用不完全变量截断共轭梯度法、共轭梯度最小二乘法进行重建，得到改进后的最终结果。
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