[发明专利]一种膜层厚度均一性调整方法及其调整装置有效
| 申请号： | 201910015033.6 | 申请日： | 2019-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN109468597B | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 王云琴;刘吉昌;胡海兵 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种膜层厚度均一性调整方法及其调整装置，涉及线性蒸镀技术领域，能够解决现有蒸镀的膜层厚度均一性超出规格时，由于采用随机调整喷嘴的孔径以及反射板数量的方式来调整膜层厚度的均一性而导致的调整效率较低，严重影响量产的问题。所述方法包括：获取膜层在多个测量点处的膜厚测量值；根据多个膜厚测量值获取膜层的坡度斜率参数和水平均一性参数；其中，坡度斜率参数用于表征线性蒸发源的受热均衡情况，水平均一性参数用于表征线性蒸发源的蒸镀口出料均衡情况。本发明用于调整线性蒸发源的膜层厚度均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 厚度 均一 调整 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1.一种膜层厚度均一性调整方法，所述膜层通过线性蒸发源蒸镀形成；其特征在于，所述方法包括：获取所述膜层在多个测量点处的膜厚测量值；根据多个所述膜厚测量值获取所述膜层的坡度斜率参数和水平均一性参数；其中，所述坡度斜率参数用于表征所述线性蒸发源的受热均衡情况，所述水平均一性参数用于表征所述线性蒸发源的蒸镀口出料均衡情况。
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