[发明专利]一种用于减小固态电解质/锂界面电阻的方法在审

专利信息
申请号: 201910015710.4 申请日: 2019-01-08
公开(公告)号: CN109768331A 公开(公告)日: 2019-05-17
发明(设计)人: 刘争;付兴杰;唐晓林;彭章泉;曾庆光 申请(专利权)人: 五邑大学
主分类号: H01M10/058 分类号: H01M10/058;H01M4/36;H01M4/38;H01M4/62;H01M10/052
代理公司: 广州市红荔专利代理有限公司 44214 代理人: 吴伟文
地址: 529020 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种用于减小固态电解质/锂界面电阻的方法,包括以下步骤:S1)、选择合适的固态电解质作为沉积的基底;S2)、在固态电解质上溅射碳靶;S3)、将固态电解质基底放置于沉积工作区内,利用沉积方法进行碳沉积,沉积厚度大约1nm‑100nm;S4)、然后将锂片与处理后的固态电解质紧密结合,通过碳过渡层直接与锂接触,从而大大降低界面电阻。本发明方法简单,实用性强,通过在固态电解质与锂金属之间溅射一层碳原子颗粒,从而达到减小界面电阻的目的,并且碳靶可自行制备,相对现有技术更加经济,并且通过改变溅射形貌,满足不同界面电阻需求。
搜索关键词: 固态电解质 界面电阻 沉积 减小 溅射 基底 碳靶 形貌 碳过渡层 碳沉积 碳原子 锂金属 锂片 制备
【主权项】:
1.一种用于减小固态电解质/锂界面电阻的方法,其特征在于:在固态电解质与锂金属负极之间溅射一层厚度为1‑100nm的碳原子颗粒,固态电解质与锂金属负极部分接触。
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