[发明专利]一种大口径薄膜衍射透镜微结构刻蚀传递方法及工装有效
| 申请号： | 201910018410.1 | 申请日： | 2019-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN109491101B | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 李志炜;邵俊铭;巩畅畅;蒋青峰;高国涵;汪利华;石恒;雷柏平;边疆;范斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B27/42 | 分类号： | G02B27/42 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种大口径薄膜衍射透镜微结构刻蚀传递方法及工装，解决了大口径带框薄膜透镜无法通过反应离子刻蚀将光刻胶微结构均匀地传递到薄膜基底上的问题。本发明提供的大口径薄膜衍射透镜微结构传递方法，在传统单频容性耦合大口径反应离子刻蚀设备中即可实现全片高均匀性微结构刻蚀传递，满足大口径薄膜衍射透镜成像衍射效率均匀性要求，可以确保在刻蚀前后大口径薄膜衍射透镜波前畸变不因微结构刻蚀传递过程发生大的波动，全口径刻蚀深度均匀性优于±6％，刻蚀工艺条件稳定易控制，重复性好，可适配多种不同型号的薄膜镜框，操作方便，便于推广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 口径 薄膜 衍射 透镜 微结构 刻蚀 传递 方法 工装 | ||
【主权项】：
1.一种大口径薄膜衍射透镜微结构刻蚀传递方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：在带有薄膜镜框(3)的薄膜基底(2)上制备优质形貌全片均布的光刻胶微结构(1)；步骤2：在反应离子刻蚀机的承片台(5)上铺上一层石墨毡(4)，承片台(5)为圆形；步骤3：将内侧填充工装(6)和镜框调整工装(7)放置在承片台(5)的中心，然后将带有薄膜基底(2)的薄膜镜框(3)安装到镜框调整工装(7)上，同时调节薄膜镜框(3)高度，使薄膜基底(2)下表面接近内侧填充工装(6)上表面；步骤4：在薄膜镜框(3)外侧安装外侧等高工装(8)，调节薄膜镜框(3)和外侧等高工装(8)的水平度与高度，使外侧等高工装(8)上表面与薄膜镜框(3)上表面位于同一水平面内；步骤5：在薄膜镜框(3)与外侧等高工装(8)上表面凹陷处安装连接工装(9)；步骤6：以合理的刻蚀参数进行反应离子刻蚀，刻蚀结束后取出样品，得到全片微结构均匀传递的大口径薄膜衍射透镜。
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