[发明专利]一种多光束光掩膜板曝光系统在审
| 申请号： | 201910019432.X | 申请日： | 2019-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN111427236A | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 陈新晋;唐光亚 | 申请（专利权）人： | 芯恩（青岛）集成电路有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 | 代理人： | 陈敏 |
| 地址： | 266555 山东省青岛市黄岛区*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种多光束光掩膜板曝光系统，在所述曝光系统中设置至少一个双折射偏光棱镜，从而可以使得一道光束被分离成具有一定分离角γ的两道光束，提高了对光掩膜板曝光和写入的速度，提高了生产效率、降低了生产成本。其中，所述双折射偏光棱镜包括渥拉斯顿棱镜。本发明还提供了一种采用上述曝光系统对光掩膜板进行写入的方法，具备上述技术效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光束 光掩膜板 曝光 系统 | ||
【主权项】：
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