[发明专利]一种嵌套结构的制备方法在审
| 申请号： | 201910021827.3 | 申请日： | 2019-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN109491203A | 公开（公告）日： | 2019-03-19 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 金华伏安光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;C23C14/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 322200 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及微纳结构制备领域，具体涉及一种嵌套结构的制备方法，采用涂覆光刻胶，曝光，交替两次显影定影和蒸镀金属材料，最后进行lift‑off湿法剥离工艺，最终得到嵌套结构。该制备过程简单易操作，制作精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 嵌套结构 制备 金属材料 湿法剥离 微纳结构 显影定影 制备过程 光刻胶 涂覆 蒸镀 曝光 制作 | ||
【主权项】：
1.一种嵌套结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，准备玻璃基底(100)，并清洗吹干；步骤2，涂覆光刻胶，用甩胶机在所述基底(100)的表面甩两层光刻胶，一层是正胶(101)，一层是负胶(102)；步骤3，电子束曝光结构图形，用扫描电子显微镜中的图形发生器设计图形，所述设计的图形为按矩形周期排列的阵列结构，所述每个单元由第一矩形(1)、第二矩形(2)、第三矩形(3)和第四区域(4)构成，所述第一矩形(1)和第二矩形(2)相接，第二矩形(2)和第三矩形(3)相接，设置于矩形周期的中间位置，所述周期内除去第一矩形(1)、第二矩形(2)和第三矩形(3)的区域为第四区域(4)；设计完图形之后，曝光第一矩形(1)、第三矩形(3)和第四区域(4)，所述第一矩形(1)和第三矩形(3)的曝光深度与第四区域(4)的曝光深度不同；步骤4，正胶显影定影，用正胶显影定影液进行处理；步骤5，蒸镀金属材料(103)，用电子束真空蒸发镀膜仪垂直蒸镀金属材料(103)；步骤6，负胶显影定影，用负胶显影定影液进行处理；步骤7，再次蒸镀金属材料(103)，再次用电子束真空蒸发镀膜仪垂直蒸镀金属材料(103)；步骤8，用剥离液进行lift‑off剥离工艺。
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