[发明专利]薄膜电池制备装置及方法

摘要

本发明提供了一种薄膜电池制备装置及方法，该装置包括薄膜沉积真空腔，用于在电池的衬底上沉积薄膜，薄膜沉积真空腔的数量至少为两个；真空连接腔，连接相邻两个薄膜沉积真空腔；真空阀，设于薄膜沉积真空腔和真空连接腔之间，用于控制薄膜沉积真空腔和真空连接腔的连通和关闭；传送机构，设于真空连接腔内，用于将电池从其中一个薄膜沉积真空腔内转移至相邻的薄膜沉积真空腔。本发明提供的薄膜电池制备装置，多个薄膜沉积真空腔通过真空阀及真空连接腔，并可通过传送机构将沉积后的衬底移送到相邻的薄膜沉积真空腔中，进行其他沉积，如此重复即可在不换靶材的情况下，保持电池生产的过程连续不断地进行，缩短电池的生产周期。

主权项

1.薄膜电池制备装置，其特征在于，包括：薄膜沉积真空腔，用于在电池的衬底上沉积薄膜，所述薄膜沉积真空腔的数量至少为两个；真空连接腔，连接相邻两个所述薄膜沉积真空腔；真空阀，设于所述薄膜沉积真空腔和所述真空连接腔之间，用于控制所述薄膜沉积真空腔和所述真空连接腔的连通和关闭；传送机构，设于所述真空连接腔内，用于将电池从其中一个薄膜沉积真空腔内转移至相邻的薄膜沉积真空腔。