[发明专利]一种可见光波段超材料完美吸收体及其自组装制备方法有效

专利信息
申请号: 201910022934.8 申请日: 2019-01-10
公开(公告)号: CN109581553B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 张海斌;刘红 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;C23C14/14;C23C14/10;C23C14/35;C23C14/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种可见光波段超材料完美吸收体及其自组装制备方法,涉及功能型光学超材料技术领域。超材料完美吸收体结构是由金纳米八面体颗粒上层、二氧化硅中间介质层以及金属铝底层所组成,其膜层厚度在几十纳米至百纳米;自组装工艺过程是在液相环境下,相互带电的纳米颗粒与金属‑介质层之间进行。通过调控各自组装实验参数,所制备超材料吸收体在可见光波段400nm~760nm能实现80%以上的平均吸收率,波长540nm、727nm附近超材料吸收体存在两个典型的近完美吸收峰,吸收率达到99%以上,且其对入射光偏振不敏感。
搜索关键词: 一种 可见光 波段 材料 完美 吸收体 及其 组装 制备 方法
【主权项】:
1.一种可见光波段超材料完美吸收体,其特征在于:所述超材料完美吸收体是由金纳米八面体颗粒上层、二氧化硅中间介质层以及金属铝底层组成,该超材料完美吸收体结构中金纳米八面体颗粒上层是一种随机排列状态,其大小均匀,取向无序,表面覆盖率在17%~30%之间;二氧化硅中间层和金属铝底层的薄膜厚度控制在10nm~100nm范围;可见光波段400nm~760nm内,超材料吸收体具有>80%的平均吸收率,且存在两个典型的近完美吸收峰。
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