[发明专利]光刻投影物镜最佳焦面检测装置及方法

摘要

本公开提供了一种光刻投影物镜最佳焦面检测装置及方法，其装置包括：照明装置、分光装置、透镜阵列、掩模板、反射器件、光电探测装置和控制器；照明装置产生准直的光束，经分光装置透射，透镜阵列聚焦至掩模板进行空间滤波至光刻投影物镜，反射器件反射通过光刻投影物镜的聚焦光束；光电探测装置，探测所述反射器件反射光束经所述掩模板空间滤波后的光束强度并发出光束强度信号；控制器连接所述工件台和所述光电探测装置，控制所述工件台运动和/或采集所述光电探测装置探测的光束强度信号。本公开利用反射器件在光刻投影物镜光轴方向的移动，根据各个视场反射光强的变化，得到光刻投影物镜的最佳焦面位置。

主权项

1.一种光刻投影物镜最佳焦面检测装置，包括：照明装置，产生准直的光束；分光装置，透射所述照明装置的出射光束；透镜阵列，聚焦所述分光装置的出射光束；掩模板，所述透镜阵列的出射光束聚焦于所述掩模板并通过所述掩模板至光刻投影物镜；所述掩模板用于实现空间滤波；反射器件，反射通过光刻投影物镜的聚焦光束；所述反射器件反射出的反射光束于所述分光装置上反射；所述反射器件的反射光束通过所述透镜阵列准直；光电探测装置，探测所述反射器件反射光束经所述掩模板空间滤波后的光束强度并发出光束强度信号；控制器，与所述光电探测装置连接；所述控制器控制所述工件台运动和/或采集所述光电探测装置探测的光束强度信号。