[发明专利]具有应变通道的晶体管及其制作方法有效
申请号: | 201910030931.9 | 申请日: | 2019-01-14 |
公开(公告)号: | CN111435684B | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
发明(设计)人: | 杨柏宇 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L21/336 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开一种具有应变通道的晶体管及其制作方法,该半导体元件包含:一基底,具有一上表面;一源极区域,设于该基底中;一漏极区域,设于该基底中;一凹槽,介于该源极区域与该漏极区域之间,从该基底的该上表面延伸进入该基底中,其中该凹槽具有一六角形剖面轮廓;一应力诱发材料层,设于该凹槽内;一通道层,设于该应力诱发材料层上;以及一栅极结构,设于该通道层上。 | ||
搜索关键词: | 具有 应变 通道 晶体管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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