[发明专利]一种高遮盖性UV处理剂及其处理工艺

摘要

本发明是关于一种高遮盖性UV处理剂及其处理工艺，包括特殊改性丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、改性二氧化硅、TMP3EOTA、HDDA、Ciba184、TPO、BASF819、流平剂、乙二醇丁醚、甲苯、异丙醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯和有机硅流平剂。采用本发明的配方及处理工艺处理后的产品具有高遮盖性、高耐磨性、易重涂、表干速度快、固化速度快和成膜快等优点，其重涂后的涂层表面没有出现咬底、渗色和结合力差的问题，处理后的涂层面光滑度高、光泽度高、光洁度好和良品率高，其解决了采用目前常规的UV处理剂处理后的产品的表面涂层具有粗糙程度不一、遮盖性差、重涂效果差、施工不方便和良品率低等问题。

主权项

1.一种高遮盖性UV处理剂，其特征在于：其包括以下重量比例成份：特殊改性丙烯酸酯       15‑30%，聚氨酯丙烯酸酯         15‑20%，聚酯丙烯酸酯           2‑5% ，改性二氧化硅           0.3%，TMP3EOTA               1‑5%，HDDA                   5‑10%，Ciba184                0.1‑0.3%，TPO                    0.1‑0.5%，BASF819                0.1‑5%，流平剂                 0.5‑1.0%，乙二醇丁醚             5‑15%，甲苯                   5‑8%，异丙醇                 5‑15%，乙酸乙酯               15‑35%，乙酸丁酯               5‑10%，有机硅流平剂           0.5‑6%。