[发明专利]一种微流体溶解氧浓度控制芯片在审

专利信息
申请号: 201910042894.3 申请日: 2019-01-16
公开(公告)号: CN109550530A 公开(公告)日: 2019-04-02
发明(设计)人: 承韶晖;刘森;刘婧;鲁为民 申请(专利权)人: 承韶晖
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 沈尚林
地址: 230000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种微流体溶解氧浓度控制芯片,包括依次相互重叠的第1层、硅胶膜隔层和第2层,且第1层内表面与第2层内表面分别与位于中间的硅胶膜隔层的两个侧面紧贴重叠;第1层内表面设有一道沟槽与紧贴的硅胶膜隔层一侧面构成了第1微通道,第2层内表面也设有一道沟槽与紧贴的硅胶膜隔层另一侧面构成了第2微通道;硅胶膜隔层将第1微通道与第2微通道相互隔离;第1微通道为适于细胞培养基流动的单向通道,第2微通道为适于Na2SO3溶液流动的单向通道,且第1微通道中流动的细胞培养基溶液中的氧透过隔离的硅胶膜扩散至第2通道中流动的Na2SO3溶液中。本发明实现了微流体中溶解氧浓度的定量控制。
搜索关键词: 微通道 硅胶膜 隔层 内表面 微流体 紧贴 溶解氧浓度控制 细胞培养基 单向通道 侧面 流动 芯片 隔离 定量控制 溶液流动 溶解氧 氧透过 扩散
【主权项】:
1.一种微流体溶解氧浓度控制芯片,其特征在于:包括第1层、硅胶膜隔层和第2层;所述第1层、硅胶膜隔层和第2层依次相互重叠,且第1层内表面与第2层内表面分别与位于中间的硅胶膜隔层的两个侧面紧贴重叠;所述第1层内表面设有一道沟槽,且该沟槽与紧贴的硅胶膜隔层一侧面构成了第1微通道,所述第2层内表面也设有一道沟槽,且该沟槽与紧贴的硅胶膜隔层另一侧面构成了第2微通道;所述硅胶膜隔层将第1微通道与第2微通道相互隔离,且第1微通道与第2微通道隔着硅胶膜隔层相互重合;所述第1微通道为适于细胞培养基流动的单向通道,第2微通道为适于Na2SO3溶液流动的单向通道,且第1微通道中流动的细胞培养基溶液中的氧透过隔离的硅胶膜扩散至第2通道中流动的Na2SO3溶液中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于承韶晖,未经承韶晖许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910042894.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top