[发明专利]基于伽玛线辐照调控聚酯薄膜陷阱分布和击穿强度的方法在审
| 申请号： | 201910042897.7 | 申请日： | 2019-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN109627481A | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 刘勇;李楠;高宇;韩涛;许棒棒 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | C08J7/12 | 分类号： | C08J7/12;C08L67/02 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 程小艳 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种基于伽玛线辐照调控聚酯薄膜陷阱分布和击穿强度的方法,包括以下步骤：将商用的聚酯薄膜材料进行干燥处理，放入辐照装置中进行辐照处理。辐照参数如下：辐照源：60Co的γ射线,辐照剂量率：10‑130Gy/min,辐照氛围：大气环境,辐照温度:室温；辐照总剂量不宜超过100kGy，偏差小于±5％。本发明的聚酯薄膜经辐照改性后，深陷阱的能级变大，击穿强度得到了提高，改善了聚合物薄膜材料的电气性能。 | ||
| 搜索关键词： | 辐照 聚酯薄膜 击穿 陷阱 伽玛 聚合物薄膜材料 聚酯薄膜材料 能级 辐照剂量率 大气环境 电气性能 辐照参数 辐照处理 辐照改性 辐照装置 干燥处理 辐照源 总剂量 调控 放入 商用 射线 | ||
【主权项】：
1.基于伽玛线辐照调控聚酯薄膜陷阱分布和击穿强度的方法,其特征在于,包括以下步骤：将商用的聚酯薄膜材料进行干燥处理，放入辐照装置中进行辐照处理其中，辐照参数如下：辐照源：60Co的γ射线,辐照剂量率：10‑130Gy/min,辐照氛围：大气环境,辐照温度:室温；辐照总剂量不宜超过100kGy，偏差小于±5％。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津大学，未经天津大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910042897.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
