[发明专利]使用高分子膜制成的石墨膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201910043859.3 | 申请日： | 2019-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN111439747B | 公开（公告）日： | 2022-01-14 |
| 发明（设计）人： | 吴家浩;林志维;金进兴;赖昱辰;苏康扬;庄伟综;王建隆;黄彦之 | 申请（专利权）人： | 达迈科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B32/205 | 分类号： | C01B32/205 |
| 代理公司： | 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 | 代理人： | 冷文燕;武玉琴 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： |
本发明提出一种使用高分子膜制成的石墨膜，该膜使用穿透式X光衍射光谱分析该图谱的(100)结晶面讯号的半高宽倒数大于60埃，且(002)及(100)结晶面衍射峰强度比值I |
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| 搜索关键词： | 使用 高分子 制成 石墨 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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